光刻机客户开始锁定二九年产能【注册】【登录】

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ASML三季报显示,客户对2027、2028年设备需求已超出现有扩产计划,甚至开始询问2029、2030年供货。公司计划明年将低数值孔径EUV与浸没式DUV产能各提高30%,并已与主要客户完成谈判、部分高端产品提价。ASML预计今年面向存储客户设备销售额增长约75%、逻辑客户约10%。佳能宣布明年半导体光刻设备产量最高接近今年两倍,尼康启动更高精度数字光刻设备研发。

2026-10-26 星期一〖阅12〗

标签: 半导体 谈判 光刻机 ASML

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